Enabler für kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips.

Arbeiten, wo das Morgen entsteht.

Was darf bei keinem Smartphone fehlen?

Genau, der Mikrochip – das Herzstück eines jeden elektronisch gesteuerten Systems. Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. ZEISS ist Technologieführer im Bereich Halbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit.

Sie möchten den Motor der Digitalisierung in einem interdisziplinären Umfeld mitgestalten? Sie haben Erfahrung in der Entwicklung und Modellierung komplexer Systeme, haben Begeisterung für Technik und Talent im Umgang mit Menschen? In der Gruppe Commissioning & Performance Assurance EUV High NA im Bereich Surface Figure Metrology der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology gestalten wir gemeinsam die Zukunft der Halbleiterlithografie mit Messprozessen und Konzepten für die hochgenaue Bestimmung der Oberflächenform unserer EUV-Optiken. Unsere Aufgabe ist es, Konzepte und fertigungstaugliche Messprozesse zu entwickeln, beginnend mit ersten Ideen und der Technologieentwicklung bis hin zur Performanceabsicherung im Fertigungsbetrieb. Wir stehen für hohe Fachexpertise, hohe Selbstverantwortung, ein unglaublich motivierendes Umfeld und eine Kultur des gemeinsamen Wachsens.

Sie entwickeln und optimieren optische Messysteme mit höchsten Genauigkeitsanforderungen für die Qualifizierung von Lithografieoptiken

Sie erarbeiten und bewerten Konzepte und Verfahren zur höchstgenauen optischen Oberflächenmessung, sie analysieren bestehende Verfahren und optimieren Durchsatz und Performance

Sie konzipieren und verbessern Messabläufe und Kalibrierverfahren für komplexe Messsysteme

Sie entwickeln Algorithmen für verbesserte Auswerte-, Kalibrier- und Korrekturverfahren für interferometrische Messverfahren mit extremen Genauigkeitsanforderungen und führen sie in die Fertigung ein

Sie untersuchen die Performance der betreuten Messtechniken mit experimentellen und theoretischen Verfahren, erarbeiten Verbesserungsmaßnahmen und koordinieren deren Umsetzung.

Sie leiten Projekte in diesem Aufgabengebiet

ein sehr gut abgeschlossenes wissenschaftliches oder technisches Studium (Physik, Maschinenbau, technische Optik), vorzugsweise mit Promotion

gute Kenntnisse in technischer Optik oder optischer Messtechnik sind vorteilhaft

Erfahrung in der datenbasierten Analyse komplexer Systeme

ein hohes Maß an Teamfähigkeit, Eigenmotivation und Engagement

gute Programmierkenntnisse, vorzugsweise in MATLAB oder Python

Kenntnisse oder Erfahrungen in GenAI von Vorteil

Erfahrungen im Projektmanagement wünschenswert

fließende Deutsch- und Englischkenntnisse

Your ZEISS Recruiting Team: